질화알루미늄(AlN) 세라믹은 전기 절연성이 있고 열전도율이 뛰어나 방열이 필요한 응용 분야에 이상적입니다.
제품 세부 정보:
반도체 질화알루미늄(AlN) 세라믹 장비 슬롯 디스크
제품 설명:
반도체 제조 공정에는 플라즈마가 발생하는 열악한 환경이 포함됩니다. 따라서 내플라즈마성이 우수한 질화알루미늄 세라믹이 반도체 제조에 더 적합합니다. 또한 반도체 제조에서는 휘발성 전구체 가스, 플라즈마 및 고온의 조합을 사용하여 웨이퍼에 고품질 필름을 배치합니다. 증착 챔버 및 웨이퍼 처리 도구는 이러한 까다로운 환경을 견딜 수 있는 내구성 있는 세라믹 부품이 필요하므로 질화알루미늄 세라믹 슬롯 디스크는 반도체 산업에 적합합니다.
당사의 질화알루미늄(AlN) 기판은 다양한 크기와 두께로 제공됩니다. 대량의 실시간 재고 덕분에 프로젝트를 시작할 수 있도록 부품을 빠르게 배송할 수 있습니다.
우리의 서비스:
맞춤화를 위해 저희에게 연락하십시오.
사양:
치수(LxW) | φ170mm 등 |
두께 | 7mm 등 |
열 전도성 | 170W/mK |
유전 상수 | 8-9(MHz) |
부피 밀도 | 3.3g/cm³ |
표면 거칠기 | 양쪽에서 Ra ≤6 μm |
회사 이점:
Huaqing은 2004년에 총 투자액 8000만 위안, 등록 자본금 4000만 위안으로 설립되었습니다. Huaqing의 AlN 및 Al2O3 세라믹 제품은 업계의 다른 공장에 비해 열전도율이 높고 유전 상수가 낮으며 손실 계수가 우수하고 기계적 특성이 우수합니다. AlN 및 Al2O3 세라믹은 HBLED, 광통신, IGBT, 전력 장치, TEC 및 기타 고급 애플리케이션에 널리 사용됩니다.
작업장 및 장비:
포장 및 배송:
UPS, DHL, Fedex 등으로 배송하십시오.
우리 서비스가 필요한 이유는 프로젝트가 제대로 수행되고 기능하는지 확인할 수 있는 전문 지식과 경험을 갖춘 고도로 자격을 갖춘 전문가를 확보하고 있다는 것입니다.
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