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알루미늄 질화물 세라믹 기판
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반도체 알루미늄 질화물(AlN) 세라믹 장비 슬롯 디스크

AlN Disc

반도체 알루미늄 질화물(AlN) 세라믹 장비 슬롯 디스크

질화 알루미늄(AlN) 세라믹은 전기 절연성이 뛰어나고 열전도도가 뛰어나 방열이 필요한 응용 분야에 이상적입니다.

제품 세부 정보:

  1. 재료: 질화알루미늄
  2. 기능: 절연 및 방열 장치.
  3. 유형: 세라믹.
  4. 색상: 회색.
  5. 맞춤형 제작 가능: 네, 특정 제품의 도면을 제공해 주세요.

반도체 알루미늄 질화물(AlN) 세라믹 장비 슬롯 디스크

제품 설명:

반도체 제조 공정에는 플라즈마가 생성되는 혹독한 환경이 포함됩니다. 따라서 플라즈마 저항성이 뛰어난 질화 알루미늄 세라믹은 반도체 제조에 더 적합합니다. 게다가 반도체 제조에서는 휘발성 전구체 가스, 플라즈마 및 고온의 조합을 사용하여 웨이퍼에 고품질 필름을 놓습니다. 증착 챔버와 웨이퍼 핸들링 도구는 이러한 까다로운 환경을 견뎌낼 수 있는 내구성 있는 세라믹 구성 요소가 필요하므로 질화 알루미늄 세라믹 슬롯 디스크는 반도체 산업에 적합합니다.

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당사의 알루미늄 질화물(AlN) 기판은 다양한 크기와 두께로 제공됩니다. 방대하고 생생한 재고 덕분에 귀하의 프로젝트를 시작할 수 있도록 귀하의 부품을 빠르게 배송할 수 있습니다.

우리의 서비스:

맞춤형 서비스에 대해서는 문의해 주시기 바랍니다.

사양:

치수(길이x폭)φ170mm 등
두께7mm 등
열전도도170W/mK
유전율8-9(MHz)
벌크 밀도3.3g/cm³
표면 거칠기양쪽 모두 Ra ≤6 μm

회사의 이점:

화칭은 2004년에 설립되었으며, 총 투자액은 8000만 위안, 등록 자본금은 4000만 위안입니다. 화칭의 AlN & Al2O3 세라믹 제품은 업계의 다른 공장과 비교하여 높은 열전도도, 낮은 유전율, 우수한 소산 계수 및 우수한 기계적 특성을 가지고 있습니다. AlN & Al2O3 세라믹은 HBLED, 광통신, IGBT, 전력 장치, TEC 및 기타 하이엔드 애플리케이션에 널리 사용됩니다.

워크숍 및 장비:

포장 및 배송:
UPS, DHL, Fedex 등을 통해 배송합니다.

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