질화알루미늄(AlN) 세라믹은 전기 절연성이 뛰어나고 열 전도성이 뛰어나 열 방출이 필요한 응용 분야에 이상적입니다.
제품 세부사항:
반도체 질화알루미늄(AlN) 세라믹 장비 슬롯 디스크
제품 설명:
반도체 제조 공정에는 플라즈마가 생성되는 가혹한 환경이 포함됩니다. 따라서 내플라즈마성이 우수한 질화알루미늄 세라믹이 반도체 제조에 더욱 적합합니다. 더욱이, 반도체 제조에서는 휘발성 전구체 가스, 플라즈마 및 고온의 조합을 사용하여 웨이퍼에 고품질 필름을 배치합니다. 증착 챔버 및 웨이퍼 처리 도구에는 이러한 까다로운 환경을 견딜 수 있는 내구성 있는 세라믹 부품이 필요하므로 질화알루미늄 세라믹 슬롯형 디스크는 반도체 산업에 적합합니다.
당사의 질화알루미늄(AlN) 기판은 다양한 크기와 두께로 제공됩니다. 대규모 실시간 재고 덕분에 귀하가 프로젝트를 시작할 수 있도록 부품을 빠르게 배송할 수 있습니다.
우리의 서비스:
사용자 정의를 위해 당사에 문의하십시오.
사양:
| 크기(LxW) | Φ170mm 등 |
| 두께 | 7mm 등 |
| 열전도율 | 170W/m.K |
| 유전 상수 | 8~9(MHz) |
| 벌크 밀도 | 3.3g/cm3 |
| 표면 거칠기 | Ra ≤6 μm(양쪽 모두) |
회사 이점:
Huaqing은 2004년에 설립되었으며 총 투자액은 8천만 위안, 등록 자본금은 4천만 위안입니다. Huaqing의 AlN 및 Al2O3 세라믹 제품은 업계의 다른 공장에 비해 높은 열전도율, 낮은 유전 상수, 우수한 소산 계수 및 우수한 기계적 특성을 가지고 있습니다. AlN 및 Al2O3 세라믹은 HBLED, 광통신, IGBT, 전력 장치, TEC 및 기타 고급 애플리케이션에 널리 사용됩니다.
작업장 및 장비:
포장 및 배송:
UPS, DHL, Fedex 등으로 배송하세요.
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